碳納米管研磨分散設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

碳納米管研磨分散設(shè)備是制備高性能碳納米管漿料的核心設(shè)備，專注解決團(tuán)聚問題。它通過低損傷研磨結(jié)構(gòu)與高剪切力協(xié)同，在保護(hù)碳納米管結(jié)構(gòu)的同時(shí)，將其均勻分散于溶劑中，確保漿料粒徑均一、穩(wěn)定性強(qiáng)。設(shè)備帶精準(zhǔn)溫控，適配鋰電池、導(dǎo)電涂料等領(lǐng)域，為提升下游產(chǎn)品導(dǎo)電性能奠定基礎(chǔ)。

產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000

更新時(shí)間：2025-10-31

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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碳納米管研磨分散設(shè)備

碳納米管導(dǎo)電漿料及其制備方法

碳納米管導(dǎo)電漿料主要由碳納米管、其他導(dǎo)電填料、分散助劑、和溶劑組成，其質(zhì)量百分比組成為：碳納米管：0.5-15%，其他導(dǎo)電物質(zhì)0.1-2%，分散助劑：0.1-5%，其余為溶劑。

該碳納米管導(dǎo)電漿料制備方法為：首先將分散助劑溶解在溶劑中，然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導(dǎo)電填料，待碳納米管和其他導(dǎo)電填料充分浸潤(rùn)后，采用SID研磨分散機(jī)對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，幾小時(shí)后即可得到穩(wěn)定分散的碳納米管導(dǎo)電漿料。本發(fā)明方法簡(jiǎn)單，不破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性，所制得的碳納米管導(dǎo)電漿料具有優(yōu)良的導(dǎo)電性，且性質(zhì)穩(wěn)定均一，靜置3個(gè)月后，漿料穩(wěn)定性>90%。

碳納米管研磨分散設(shè)備

對(duì)于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散，普遍存在著2個(gè)難以解決的問題：

1、研磨的細(xì)度，傳統(tǒng)的設(shè)備研磨設(shè)備是通過刀頭去磨細(xì)，這樣經(jīng)常會(huì)破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性，使物料變性。而SID研磨分散機(jī)，細(xì)化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細(xì)化的功能，不會(huì)破壞物料結(jié)構(gòu)。

2、容易形成二級(jí)團(tuán)聚體，在碳納米管粒徑細(xì)化之后，由于分子之間的作用力，小的物料又會(huì)二次團(tuán)聚，從而影響*終產(chǎn)品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機(jī)很好的克服了二級(jí)團(tuán)聚的現(xiàn)象，SID研磨分散機(jī)是研磨機(jī)和分散機(jī)一體化的設(shè)備，在碳納米管漿料粒徑細(xì)化后，瞬間通過分散工作腔，進(jìn)行分散，避免二次團(tuán)聚的現(xiàn)象。

GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

碳納米管研磨分散設(shè)備

碳納米管研磨分散設(shè)備參數(shù)表：

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。