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GMD2000石墨烯剝離高剪切分散設(shè)備





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石墨烯剝離高剪切分散設(shè)備是實(shí)現(xiàn)石墨高效剝離的核心設(shè)備,專為破解石墨烯團(tuán)聚難題設(shè)計(jì)。其通過超高轉(zhuǎn)速(可達(dá)14000rpm)的精密定轉(zhuǎn)子,產(chǎn)生強(qiáng)剪切力與湍流,在狹窄間隙中實(shí)現(xiàn)石墨層間剝離與均勻分散。該設(shè)備能減少片層結(jié)構(gòu)損傷,適配多種體系,廣泛用于鋰電、涂料等領(lǐng)域的石墨烯漿料制備。
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石墨烯目前是世上zui薄卻也是zui堅(jiān)硬的納米材料 ,為世上電阻率*小的材料。因?yàn)樗碾娮杪蕵O低,電子遷移的速度極快,因此被期待可用來發(fā)展出更薄、導(dǎo)電速度更快的新一代電子元件或晶體管。由于石墨烯實(shí)質(zhì)上是一種透明、良好的導(dǎo)體,也適合用來制造透明觸控屏幕、光板、甚至是太陽能電池。所以越來越多的廠家開始研究和生產(chǎn)石墨烯。
石墨烯的應(yīng)用十分廣泛,如:石墨烯鋰電池漿料、石墨烯導(dǎo)電漿料、石墨烯涂料、石墨烯復(fù)合材料、石墨烯潤滑油等等。石墨烯漿料的難點(diǎn)就是分散問題,石墨烯分散到NMP中,石墨烯分散到水中,石墨烯分散到潤滑油中,都要解決一個(gè)研磨分散剝離的問題。

石墨粉體本身很細(xì)小,分散到液體介質(zhì)(水或NMP)中,容易形成團(tuán)聚,難以分散,所以需要先研磨,打開團(tuán)聚體,再進(jìn)行分散。特別適合使用SID研磨分散機(jī),先研磨后分散,瞬間處理,效果更佳。
由于石墨烯的特殊結(jié)構(gòu),采用砂磨機(jī)容易破壞片層結(jié)構(gòu)。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行石墨烯漿料的處理,研磨分散機(jī)是將膠體磨(研磨機(jī))和分散機(jī)合二為一的設(shè)備。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的剪切力、離心力,對(duì)物料進(jìn)行剪切、剝離、分散、細(xì)化。所以特別適合石墨烯漿料的生產(chǎn),并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)。
SID在石墨烯領(lǐng)域的應(yīng)用成功,為石墨烯行業(yè)的發(fā)展提供了設(shè)備支持,得到了充分的認(rèn)可。SID石墨烯研磨分散設(shè)備采用德國先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

石墨烯剝離高剪切分散設(shè)備設(shè)備選型表:
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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