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分散機
粉體納米分散機
GRS2000墨水納米分散機
墨水納米分散機該設(shè)備是墨水生產(chǎn)核心設(shè)備,專為解決顏料團聚、粒徑不均導(dǎo)致的發(fā)色差問題設(shè)計。通過超 18000rpm 高剪切分散頭,將顏料細(xì)化至納米級,粒徑分布窄。可精準(zhǔn)控溫防溶劑揮發(fā),適配水性、油性體系,提升墨水色彩飽和度與流暢性,適用于數(shù)碼打印、包裝印刷等領(lǐng)域。
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墨水是墨水和油漆涵蓋了涂裝和噴涂應(yīng)用的很多類產(chǎn)品。墨水和油漆通常分為油相和水相兩種,并有添加色素或樹脂。如采用傳統(tǒng)加工方式,需要花費相當(dāng)長的時間來溶解樹脂,還會發(fā)生沉淀和結(jié)塊。使用SID設(shè)備,客戶可以高效率生產(chǎn)高品質(zhì)的產(chǎn)品。
縮短工藝時間。SID設(shè)備產(chǎn)生的高剪力,可以打碎樹脂顆粒,并暴露于溶劑中,加速溶解過程。
提升產(chǎn)品品質(zhì)。根據(jù)原料和產(chǎn)品的細(xì)度,SID設(shè)備可以研磨色素,或消除zui終產(chǎn)品的結(jié)塊。SID有多種分散頭供選擇,能的勝任各項任務(wù)。
機器是顆粒細(xì)化到納米級后,其表面積累了大量的正、負(fù)電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當(dāng)降至1nm時,表面原子比例高達(dá)90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學(xué)活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達(dá)到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生
眾所zhou知納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。
分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設(shè)備。
墨水納米分散機設(shè)備參數(shù)表:
標(biāo)準(zhǔn)流量 | 輸出轉(zhuǎn)速 | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 | 馬達(dá)功率 | |||
L/H | rpm | m/s | KW | |||
GRS2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 3000 | 7500 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
GRS2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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